等離子體是氣體分子在真空、放電等特殊場(chǎng)合下產(chǎn)生的物質(zhì)。等離子清洗/刻蝕產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個(gè)電極形成電磁場(chǎng)，用真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體越來越稀薄，分子間距及分子或離子的自由運(yùn)動(dòng)距離也越來越長(zhǎng)，受磁場(chǎng)作用，發(fā)生碰撞而形成等離子體，同時(shí)會(huì)發(fā)生輝光。等離子體在電磁場(chǎng)內(nèi)空間運(yùn)動(dòng)，并轟擊被處理物體表面，從而達(dá)到表面處理、清洗和刻蝕的效果。

　　等離子清洗機(jī)可用于除去透射電鏡樣品及樣品桿上的污染，防止碳沉積以降低圖像分辨率及對(duì)樣品微區(qū)分析造成誤判。還可利用該儀器清洗各類光闌等電子顯微鏡配件。特別適用于場(chǎng)發(fā)射透射電鏡和場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡。用這種低能高頻等離子體清洗樣品表面，不會(huì)改變樣品元素成份和表面結(jié)構(gòu)特征。

　　該清洗機(jī)具有H2，O2，Ar三組分通道。從而能夠利用H2/02組分，可減小樣品濺射損傷，還可對(duì)多孔碳膜進(jìn)行無破壞的清洗。從而提高樣品在低電壓下的成像能力，在化學(xué)微量分析時(shí)提高其精度。無油真空系統(tǒng)：泵體部分由多級(jí)隔膜泵和超靜音分子泵組成，真空度可達(dá)10E-4Pa等級(jí)，在保證真空度的同時(shí)，可在兩分鐘之內(nèi)達(dá)到抽真空和放氣過程；整個(gè)清洗過程在4分鐘內(nèi)可以完成。還可清洗大部分標(biāo)準(zhǔn)透射電鏡樣品桿以及掃描電鏡樣品載臺(tái)及不規(guī)則樣品，樣品室直徑>8cm，樣品室高度>5cm。

　　等離子清洗機(jī)根據(jù)它用途的不同，可選用多種構(gòu)造的清洗設(shè)備，并可通過選用不同種類的氣體，調(diào)整裝置的特征參數(shù)等方法使工藝流程實(shí)現(xiàn)，但等離子體清洗裝置的基本結(jié)構(gòu)大致是相同的。關(guān)于等離子清洗機(jī)的相關(guān)知識(shí)點(diǎn)就先說到這里了，這款產(chǎn)品還有很多的常識(shí)等著各位來發(fā)現(xiàn)與了解，如果您還想要了解更多內(nèi)容，還請(qǐng)先關(guān)注好我們，小編會(huì)不定期在此跟大家分享更多的信息。