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標(biāo)準(zhǔn)濕法處理系統(tǒng)

    CHEMIXX 30pm濕法臺(tái)是一款半自動(dòng)單面濕法系統(tǒng),主要用于晶圓或者方片的清洗,刻蝕,顯影等應(yīng)用,其中清洗部分具有化學(xué)清洗,兆聲清洗,PVA刷洗,高壓DI水沖洗,背部清洗等多種功能。

    更新時(shí)間:2022-11-25 17:23:57
  1. 詳細(xì)信息

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

 

CHEMIXX 30pm濕法臺(tái)是一款半自動(dòng)單面濕法系統(tǒng),主要用于晶圓或者方片的清洗,刻蝕,顯影等應(yīng)用,其中清洗部分具有化學(xué)清洗,兆聲清洗,PVA刷洗,高壓DI水沖洗,背部清洗等多種功能。

 

n產(chǎn)品特色

 

÷ 圓形晶圓最大可達(dá) ? 300mm

÷ 方形襯底最大可達(dá) 9 x 9 inch

÷ 最多兩個(gè)電動(dòng)輸送臂,每個(gè)最多 6 個(gè)管路

÷ 液體加熱模塊高達(dá) 60°C

÷ 用于去離子水的背面沖洗

÷ 集成三種不同化學(xué)品液供應(yīng)系統(tǒng)

÷ 工藝室外的手動(dòng)去離子水槍

÷  工藝室自動(dòng)去離子水沖洗可選

÷ 帶有流孔的工藝室檔板

 

n技術(shù)數(shù)據(jù)

 

÷ 襯底尺寸最大可達(dá) ? 300mm (?12 inch)  230 x 230 mm (9 x 9 inch)

÷ 電機(jī)轉(zhuǎn)速最大 3.000 rpm步進(jìn)rpm

÷ 步進(jìn)時(shí)間: 1  999.9 秒,步長(zhǎng) 0.1 s

÷ 系統(tǒng)架構(gòu)由粉末涂層不銹鋼制成

÷ 處理室材料 PP (可選 PVDF)

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